設備主要用于單、多晶硅太陽能電池片生產,擴散前的絨面腐蝕和清洗。
工藝過程為：上料→HF+HNO3腐蝕→QDR+氮氣鼓泡+噴淋→KOH腐蝕→QDR+氮氣鼓泡+噴淋→HCl腐蝕→QDR+氮氣鼓泡+噴淋→下料→離心機甩干(離線)，全程PLC控制，觸摸屏操作。
整體采用德國10mm （5MM）厚NPP板或PP板雕刻后焊接組合加工而成，槽體配置可實現腐蝕或后殘留在片子上的化學液及污染顆粒的沖洗祛除功能。采用龍門式機械手方式移動，其工藝時間可以自行調節，酸堿槽具有自動補液裝置，可實現無間斷生產。能顯示溫度曲線、濃度變化曲線，及各個工位的工作狀態。具有設備報警說明，報警歷史查詢功能。
對清洗用純水有電阻率監測裝置，能存儲10個以上工藝方案，適用于投產厚度為160±30～200±30微米的硅片，硅片產能不低于1200片/小時，設備開工率＞92﹪，碎片率≤3‰。設備由安裝在槽體底部的快排閥、DI注入孔（包括氮氣鼓泡）及頂部左右兩側的DI噴嘴實現槽體的快速注入與排放。
快排沖洗槽（QDR）的工作過程由獨立K200型專用控制器保證。它包括工藝時間、沖洗次數設置、工作完成提示以及過程中的故障報警、狀態提示等功能。設備性能穩定可靠，被廣泛應用于太陽能電池行業。
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